一、工作原理

1、電去離子(Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI)是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來(lái)的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過(guò)程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)再生。

2、EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換，離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過(guò)水的電解連續(xù)再生，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學(xué)再生。

二、EDI超純水設(shè)備的主要優(yōu)點(diǎn)：

1.產(chǎn)水水質(zhì)高而且具有較佳的穩(wěn)定度。

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。

3.模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。

4.不須酸堿再生，無(wú)污水排放。

5.無(wú)酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲(chǔ)運(yùn)。

6.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

7.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。

8.運(yùn)行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。

三、EDI超純水設(shè)備基本參數(shù)
 1、給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。
 2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
 3、溫度：5-35℃
 4、進(jìn)水壓力：較大為4kg/cm2(60psi)，較小為1.5kg/cm2(25psi)。

四、EDI的進(jìn)水要求 

反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，較大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值： 7.5—9

溫度： 15℃--35℃

進(jìn)水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa

濃水進(jìn)水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa

進(jìn)水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計(jì)）(推薦0 5ppm以下）

進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜0.5ppm

進(jìn)水硅：SiO2＜0.5ppm

進(jìn)水總CO2：＜3ppm

進(jìn)水顆粒度：＜1μm

五、工藝流程